中國(guó)真空學(xué)會(huì)2016 學(xué)術(shù)年會(huì)征文通知（第二輪）
中國(guó)真空學(xué)會(huì)2016 學(xué)術(shù)年會(huì)征文通知(第二輪)
由中國(guó)真空學(xué)會(huì)主辦、云南師范大學(xué)與北京大學(xué)承辦的中國(guó)真空學(xué)會(huì)2016學(xué)術(shù)年會(huì)將于2016年8月12-14日在云南省昆明市舉辦。熱切希望全體學(xué)會(huì)會(huì)員、理事及科研院所、企業(yè)同仁等踴躍投遞論文。
大會(huì)將設(shè)一個(gè)主會(huì)場(chǎng)和六個(gè)分會(huì)場(chǎng)。(六個(gè)分會(huì)場(chǎng)分別是：1、真空科技與工程；2、表面科學(xué)與應(yīng)用；3、薄膜科學(xué)與技術(shù)；4、納米科學(xué)與技術(shù)；5、電子材料與器件、等離子體技術(shù)；6、顯示技術(shù)等)。學(xué)術(shù)交流將采取多種形式：大會(huì)特邀報(bào)告，分會(huì)邀請(qǐng)報(bào)告，分會(huì)口頭報(bào)告，張貼報(bào)告，會(huì)間將評(píng)選“最佳張貼報(bào)告獎(jiǎng)”。
征文范圍：
1、真空科技與工程(真空科學(xué)與技術(shù)、真空工程、真空冶金與表面工程、真空獲得與測(cè)量、質(zhì)譜分析與檢漏)
2、表面科學(xué)與應(yīng)用(表面科學(xué)與技術(shù)、應(yīng)用表面科學(xué)與技術(shù))
3、薄膜科學(xué)與技術(shù)(薄膜生長(zhǎng)機(jī)理、制備技術(shù)和應(yīng)用)
4、納米科學(xué)與技術(shù)(納米科學(xué)與技術(shù)、納米生物與生物界面)
5、電子材料與器件、等離子體技術(shù)(電子材料與器件、真空微電子學(xué)、等離子體物理與技術(shù))
6、顯示技術(shù)(顯示技術(shù))
一、征文要求
1、本次學(xué)術(shù)會(huì)議歡迎與會(huì)者踴躍投稿，只需提交論文摘要(中、英文均可)，網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。
2、本次會(huì)議的摘要投稿請(qǐng)通過(guò)會(huì)議官方網(wǎng)站進(jìn)行，
網(wǎng)址：http://www.cvsnet.org.cn，網(wǎng)站投稿開通時(shí)間為2016 年3月1日，參會(huì)者需要先在網(wǎng)站上注冊(cè)，然后根據(jù)摘要模板編輯摘要格式，并依照網(wǎng)站上說(shuō)明提交摘要。(詳情見會(huì)議網(wǎng)站上的論文投稿流程說(shuō)明)
3、大會(huì)將出版論文摘要集，為統(tǒng)一摘要格式，請(qǐng)務(wù)必采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。
4、網(wǎng)上投稿時(shí)請(qǐng)務(wù)必填寫報(bào)告人、所屬的分會(huì)編號(hào)(大會(huì)邀請(qǐng)報(bào)告除外)、以及報(bào)告類型等信息。
5、摘要是否被錄用、以及報(bào)告的類型將在2016 年7 月份另行通知作者。
6、對(duì)于口頭報(bào)告，會(huì)議備有多媒體設(shè)備，請(qǐng)自備U 盤。
張貼報(bào)告請(qǐng)自行打印，尺寸：90cm× 120cm。
二、截稿日期
1、摘要截稿日期：2016年6月20日前。
2、摘要投稿過(guò)程中，如果遇到學(xué)術(shù)問(wèn)題，請(qǐng)與所屬分會(huì)的負(fù)責(zé)人聯(lián)系。
3、摘要投稿過(guò)程中，如果遇到技術(shù)問(wèn)題，請(qǐng)與中國(guó)真空網(wǎng)負(fù)責(zé)人聯(lián)系。
中國(guó)真空網(wǎng)：馬雯卿電話：021-62121126 轉(zhuǎn)814
會(huì)務(wù)組：中國(guó)真空學(xué)會(huì)辦公室
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