電真空器件烘烤排氣過程中殘余氣體質(zhì)譜分析
采用四極質(zhì)譜儀,對(duì)大功率速調(diào)管烘烤排氣過程中殘余氣體進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè),分析烘烤排氣過程中管內(nèi)件及氧化物陰極的出氣規(guī)律。結(jié)果表明:烘烤排氣過程中主要出現(xiàn)三個(gè)出氣高峰,依次出現(xiàn)在烘烤排氣溫度30,75,325℃;過程中排除氣體主要為H2O ,并含有少量CO 和H2 ;進(jìn)入烘烤排氣保溫區(qū)后,出氣量較小,且基本保持恒定;烘烤排氣結(jié)束后,殘余氣體含量微少,均低于1.2×10-5 Pa ,為速調(diào)管提供了較好的高真空環(huán)境。
電真空器件中殘余氣體對(duì)器件的陰極發(fā)射性能、整管性能及壽命等有著非常重要影響。在實(shí)際工作中,不但要降低電真空器件中殘余氣體的量(真空度),更要注意控制殘余氣體的質(zhì)(氣體成分),即將對(duì)陰極有毒化作用的氣體壓強(qiáng)降低到臨界中毒壓強(qiáng)以下,甚至為零,而對(duì)陰極有激活作用的還原性氣體控制在一個(gè)最佳壓強(qiáng)范圍。通常,管內(nèi)殘余氣體在電子注作用下發(fā)生電離,產(chǎn)生的離子會(huì)引起離子聚焦、離子轟擊陰極和離子震蕩等物理現(xiàn)象,使陰極發(fā)射和高頻輸出功率下降。合理的烘烤和排氣(以下簡(jiǎn)稱烘排)工藝過程對(duì)減少速調(diào)管內(nèi)殘余氣體,保證速調(diào)管可靠工作尤為重要。
分析烘排過程中管內(nèi)出氣的成分及其分壓強(qiáng)對(duì)提高電真空器件的性能和質(zhì)量、改進(jìn)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)和工藝具有重要的作用。殘余氣體質(zhì)差量高,往往是器件性能低劣,早期失效的主要原因之一,采用四極質(zhì)譜殘余氣體分析技術(shù)將有助于分析各種殘氣成分對(duì)器件性能和壽命的影響,有助于查明器件內(nèi)存在的放氣源,以便判斷陰極及各部件、烘排生產(chǎn)工藝規(guī)范是否科學(xué)合理,分析器件的質(zhì)量,作為檢測(cè)整管的手段。四極質(zhì)譜儀已成為高可靠、高穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的電真空器件所必備的診斷儀器。
本文在真空排氣臺(tái)上安裝四極質(zhì)譜儀,通過烘烤排氣過程中器件內(nèi)出氣過程的質(zhì)譜分析,對(duì)陰極及管內(nèi)材料出氣過程及成分研究和評(píng)價(jià)。
1、試驗(yàn)系統(tǒng)
本實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)主要由真空室、內(nèi)真空系統(tǒng)、外真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、四極質(zhì)譜分析儀五部分組成。詳細(xì)組成零部件如圖1 所示。該設(shè)備專用于超高真空條件下的大功率速調(diào)管烘烤排氣及封離。
圖1 用于殘余氣體質(zhì)譜分析的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)原理圖
真空室有效工作空間Υ1000 mm ×2000 mm ,工件內(nèi)腔容積≤10 L。內(nèi)真空系統(tǒng)(工件內(nèi)真空)主要由兩臺(tái)機(jī)械泵、兩臺(tái)分子泵、一臺(tái)離子泵組成,極限真空度大于10-8 Pa ,為防止真空系統(tǒng)對(duì)工件內(nèi)油氣污染,在機(jī)械泵前級(jí)加了兩臺(tái)冷阱。外真空系統(tǒng)主要由兩臺(tái)大抽速機(jī)械泵和一臺(tái)擴(kuò)散泵組成,極限真空度1 ×10-3 Pa 。
四極質(zhì)譜儀連接到內(nèi)真空系統(tǒng)上,用于烘烤排氣過程中大功率速調(diào)管殘余氣體分析。四極質(zhì)譜儀不用磁鐵,性能指標(biāo)較高,是目前應(yīng)用最廣的一種小型動(dòng)態(tài)質(zhì)譜儀。可測(cè)量器件內(nèi)部氣體的組分和相應(yīng)的分壓強(qiáng)值。四極質(zhì)譜分析系統(tǒng)主要由以下部分構(gòu)成:超高真空機(jī)組、腔體(管道)及閥門、四極質(zhì)譜儀、采樣分析機(jī)構(gòu)、測(cè)試控制儀表等輔助裝置。
2、烘烤排氣過程中管內(nèi)出氣規(guī)律
大功率速調(diào)管由于其工作電壓高、陰極發(fā)射電流密度高、電子注功率高和容積大,其真空腔內(nèi)殘余氣體的成分及含量會(huì)影響其正常工作,甚至導(dǎo)致整管報(bào)廢。速調(diào)管主要通過烘烤排氣工序完成對(duì)陰極分解和激活,及腔內(nèi)真空環(huán)境獲得的。烘烤和排氣工序是速調(diào)管制備的最后一道工序,通過對(duì)速調(diào)管加熱和真空排氣,清除速調(diào)管工藝過程中的有機(jī)物,去除吸附在金屬和陶瓷材料表面的氣體,對(duì)陰極進(jìn)行分解和激活,獲得陰極、高壓絕緣和電子注傳輸所要求的高真空環(huán)境。
本實(shí)驗(yàn)選用S 波段大功率速調(diào)管進(jìn)行烘排過程中管內(nèi)出氣規(guī)律的分析研究。該速調(diào)管采用復(fù)合結(jié)構(gòu)的氧化物陰極,陰極裝入速調(diào)管前經(jīng)過了電子槍預(yù)除氣工序,因此在整管烘烤排氣工序中陰極分解環(huán)節(jié)出氣較少,縮短了整管所需的烘排時(shí)間,減小陰極出氣對(duì)管內(nèi)環(huán)境的影響。如圖2 所示,為大功率速調(diào)管烘烤排氣過程中,殘余氣體成分及含量的變化。由圖中可以觀察出,在整個(gè)烘烤排氣過程中,H2O(M/ e =18)出氣量最大,其余出氣量從大到小依次為CO(M/e =28),H2(M/ e =2)。O2 (M/ e =32)和CO2(M/ e =44)出氣量微小,可以忽略。
圖2 烘排過程中出氣曲線
其中除CO 氣體外,其它氣體在整個(gè)烘排過程中出氣規(guī)律基本一致,主要出現(xiàn)三個(gè)氣峰,第一個(gè)氣峰發(fā)生在燈絲電壓、電流施加初期(燈絲電流7 A ,烘排溫度30 ℃),隨著烘排溫度和陰極溫度的升高,當(dāng)溫度達(dá)到75 ℃時(shí)出現(xiàn)第二個(gè)氣峰,在325 ℃烘排溫度下,出現(xiàn)第三個(gè)也是最大的出氣峰,隨后器件內(nèi)出氣量逐漸降低,在450 ℃保溫期間,出氣量非常微小且基本保持恒定,未見明顯氣峰出現(xiàn)。烘排過程中,CO 出氣規(guī)律比較特殊,在升溫過程中,也產(chǎn)生了三個(gè)出氣峰,但出氣量并不大,進(jìn)入烘排保溫區(qū)后出現(xiàn)兩個(gè)較大的出氣高峰。
3、烘烤排氣過程中出氣峰分析
管內(nèi)殘余氣氛對(duì)氧化物陰極的影響分為中毒性氣氛、中性氣體氣氛、激活性氣氛三類。依據(jù)排氣過程中殘余氣氛含量、殘余氣氛對(duì)陰極作用等因素,重點(diǎn)對(duì)O2 、H2O 、CO2 、H2 、N2 等進(jìn)行分析。本文主要針對(duì)排氣過程中出現(xiàn)的三個(gè)氣峰、450 ℃保溫區(qū)、烘排完畢整管出爐前等五個(gè)時(shí)間段進(jìn)行重點(diǎn)殘氣分析,以分析出殘余氣體成分及其出氣規(guī)律。
速調(diào)管整管進(jìn)入高真空烘排氣臺(tái)后,開啟真空泵并檢漏,此時(shí)整管出氣量較大,真空度較低,所以不進(jìn)行升溫排氣,為保證陰極排氣質(zhì)量,防止管內(nèi)殘余氣體具有向陰極低溫區(qū)聚集導(dǎo)致陰極“中毒” ,需對(duì)燈絲施加電流電壓,使陰極區(qū)溫度升高。本實(shí)驗(yàn)首先對(duì)烘烤排氣過程中第一個(gè)出氣高峰進(jìn)行殘氣分析,此時(shí)燈絲電壓和電流達(dá)到烘排設(shè)定值,烘排爐內(nèi)溫度為30 ℃,超高真空規(guī)管測(cè)得真空度為1 ×10-5 Pa ,四極質(zhì)譜分析如圖3(a)所示。該出氣峰氣體主要由于陰極電流和電壓升高,陰極分解產(chǎn)生而成,隨著燈絲電流電壓的升高,電子槍內(nèi)部溫度升高,陰極材料出氣量增加,主要出氣的質(zhì)量數(shù)分別為18 ,17 ,28 ,16 ,2 ,32 ,44 ,根據(jù)氣體典型質(zhì)譜圖,質(zhì)量數(shù)18 為H2O 峰,質(zhì)量數(shù)17 為OH+碎片峰;因無質(zhì)量數(shù)14 的N+碎片峰出現(xiàn),所以質(zhì)量數(shù)28 應(yīng)主要為CO 氣峰,質(zhì)量數(shù)2 主要為H2 氣峰,16 為O2-峰,32 和44 出氣量較少,始終處于10-4量級(jí),分別為O2 和CO2 峰。
與此同時(shí),由于電子槍內(nèi)部溫度升高,結(jié)構(gòu)材料物理吸附和化學(xué)吸附氣體大量放出,以上因素綜合作用產(chǎn)生第一個(gè)出氣峰。隨著烘排溫度的升高,結(jié)構(gòu)零部件材料物理吸附氣體釋放,出現(xiàn)第二個(gè)出氣峰,氣峰氣體成分及含量如圖3(b)及表1 所示為,此時(shí)燈絲電壓電流為烘排設(shè)定值,爐內(nèi)溫度為75 ℃。經(jīng)過第二個(gè)烘排出氣高峰后,隨著烘排溫度的升高,出氣量緩慢增加,到爐內(nèi)溫度325 ℃時(shí),達(dá)到第三個(gè)出氣高峰,此時(shí)氣峰氣體成分及含量如圖3(c)及表1 所示。
由圖表中可以看出,三個(gè)出氣峰氣體均主要為H2O ,并含有少量的H2 和CO ,及微量的O2 ,CO2 。烘排過程中的出氣主要包括陰極材料出氣和結(jié)構(gòu)材料出氣。試驗(yàn)速調(diào)管陰極采用氧化物陰極,該類陰極出氣量較大,主要由于該陰極表面氧化物在短暫的與空氣接觸過程中易吸附雜氣,如H2O 、CO2 、H2 等,且結(jié)構(gòu)疏松,吸氣量較大。陰極制備過程中,使用了銷棉等有機(jī)物,在前處理過程中,有機(jī)物分解產(chǎn)生的C ,烘排過程中在高真空高溫條件下與材料內(nèi)部的O原子結(jié)合形成CO 、CO2 等。
圖3 氣峰時(shí)刻出氣質(zhì)譜圖
表1 氣峰時(shí)刻殘余氣體成分含量
在真空條件下,速調(diào)管中的結(jié)構(gòu)材料的出氣主要來自表面物理脫附的氣體和化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的氣體。速調(diào)管的結(jié)構(gòu)材料在空氣中儲(chǔ)存時(shí),其吸附的氣體與環(huán)境中氣體達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,進(jìn)入真空環(huán)境后,這種動(dòng)態(tài)平衡被打破,結(jié)構(gòu)材料開始向真空環(huán)境中出氣,其中物理吸附的氣體與材料表面的結(jié)合力較弱,在常溫真空條件就能較容易的去除,而化學(xué)吸附氣體與材料表面原子為化學(xué)鍵結(jié)合,結(jié)合力較大,比物理吸附力強(qiáng)的多,因此常在烘烤環(huán)節(jié)中400 ℃較長(zhǎng)時(shí)間可去除,即在第三個(gè)氣峰附近放出。材料的放氣特性,與材料成分、純度、預(yù)處理方法、材料表面粗糙度及試驗(yàn)方法有密切關(guān)系。速調(diào)管主要金屬結(jié)構(gòu)均在氫氣保護(hù)條件下釬焊而成,且氫氣易于吸附于各種材料表面并滲入零件內(nèi)部,相對(duì)于其他氣體,
氫氣更容易脫附。對(duì)于金屬材料,不同氣體的脫附溫度和脫附活化能Ed 相差較大,其中氫氣分子的脫附溫度最低,為30 ~ 45 ℃,接近常溫。通常金屬表面都會(huì)生成厚度為10 ~ 1000 nm 的多孔性氧化膜,面積為1 cm2 ,厚100 nm 的氧化膜可以吸附相當(dāng)于100 個(gè)水分子層的水汽量。尤其是陰極表面疏松氧化物極易吸附大量水蒸汽。金屬部件在真空中加熱時(shí),在200 ℃以內(nèi)主要是水和其他表面吸附物質(zhì)的脫附。達(dá)到200 ℃以上,處于氧化層中的吸附水及其他物質(zhì)開始釋放,釋放速率決定于其分子通過不同長(zhǎng)度和直徑的微孔或晶格與晶界的擴(kuò)散速率。
在烘烤溫度300 ~ 400 ℃時(shí),這部分氣體(N2 ,O2 、CO2)快速放出,形成第三個(gè)出氣高峰。一部分水分子為高溫條件下,材料內(nèi)部H2 還原氧化物產(chǎn)生H2O 。
4、烘烤排氣過程中保溫區(qū)、烘排后殘氣分析
圖4(a)為烘排保溫18 h 后殘余氣體成分,具體含量如表2 所示。由圖表中所示,經(jīng)過18h 烘排后,管內(nèi)主要?dú)怏w含量較低且基本保持恒定,主要?dú)怏w為CO 。三個(gè)氣峰中主要的H2O 、H2 氣體均基本排氣完畢,含量均低于3 .165 ×10-5 Pa 。圖4(b)為烘排結(jié)束,停油泵6 h 后管內(nèi)殘氣分析,此刻燈絲電壓電流為0 ,爐內(nèi)溫度72 ℃。由表2 所示,烘排結(jié)束后管內(nèi)真空度達(dá)4 .3 ×10-8 Pa ,完全滿足微波管正常工作的10-5 ~ 10-6 Pa 真空度要求。管內(nèi)殘余氣體主要為微量的CO ,殘余氣體含量均低于速調(diào)管正常工作的臨界壓強(qiáng)值,不會(huì)影響整管的正常工作。進(jìn)行該分析后,即關(guān)四極質(zhì)譜儀、開爐出整管,因此此刻管內(nèi)殘氣分析直接反映了烘排后整管管內(nèi)真是殘氣成分和含量,直觀的反應(yīng)了該支電真空器件管內(nèi)真空環(huán)境。
圖4 烘烤排氣保溫區(qū)管內(nèi)出氣質(zhì)譜圖及整管封離前殘氣質(zhì)譜圖
表2 烘烤排氣保溫區(qū)殘余氣體成分及整管封離前殘氣成分
5、結(jié)論
(1)烘烤排氣過程中主要出現(xiàn)三個(gè)出氣高峰,依次出現(xiàn)在烘排溫度30 ,75 ,325 ℃過程中排除氣體主要為H2O ,并含有少量CO 和H2;
(2)進(jìn)入烘排保溫區(qū)后,出氣量基本保持恒定,且出氣量較小;
(3)烘排結(jié)束后,整管內(nèi)部真空度達(dá)4 .3 ×10-8 Pa 殘余氣體含量均低于速調(diào)管正常工作的臨界壓強(qiáng)值,為速調(diào)管提供了非常好的高真空環(huán)境。