氦質譜真空檢漏常用的基本方法是噴吹法和氦罩法, 如圖1 和圖2 所示。

噴吹法氦質譜真空檢漏

         一個以一定速度移動的噴槍通過噴咀將具有一定壓力的氦氣(或混合氣) 噴向被檢容器的可疑部位, 如果氦氣通過漏孔進入被檢容器后, 進入質譜室, 產生訊號, 可檢示漏孔的存在, 對于判定漏孔的位置是很方便適用的。由于檢漏儀(系統) 有一定的響應時間, 檢漏儀指示有漏孔時, 漏孔不一定正好在噴槍的噴咀所對的位置, 通常, 在發現有漏的范圍內, 減小噴槍移動速度, 減小噴咀與被檢容器表面距離, 反復查找, 在噴咀正好對準漏孔, 噴槍不移動時, 檢漏儀指示的漏率可能等于或接近于漏孔實際漏率。噴吹法檢漏靈敏度受多種因素影響, 有時, 實際漏孔很大, 用噴吹法可能檢不出來或者指示的漏率很小。

         如所周知, 影響因素有: 漏孔的形狀, 噴咀相對漏孔的夾角, 噴咀相對漏孔的距離, 噴槍相對漏孔移動速度, 噴咀的形狀和尺寸, 噴射氣體壓力, 被檢容器的周圍環境大氣中氦氣本底(氦濃度) 的大小及穩定情況, 這些因素很復雜,影響程度很難確定, 過去有人在這方面做過研究, 給出了應用這種方法的注意事項, 沒有得出具體的定量的結果。

 噴吹法的靈敏度

       噴吹法檢漏靈敏度可以用一支接在被檢容器上的經過校準的真實漏孔進行校準, 如圖1所示。

圖1　氦質譜檢漏的噴吹法

       極限靈敏度(即最小可檢漏率,MDL ) 可用噴咀對準漏孔長時間噴吹, 亦可在漏孔進氣端接一個氦氣源, 根據檢漏儀指示的穩定值求得。在具體應用中, 因檢漏條件(噴槍相對漏孔的夾角, 噴尺寸, 噴咀相對漏孔的移動速度⋯⋯) 不同, 檢漏靈敏度(即, 最小可檢漏率) 差別較大,甚至于可能較極限靈敏度低102 倍。

氦罩積分法

       氦罩積分法是用一個罩子將被檢件部分或全部罩起來, 在罩內充入氦氣,

圖2　氦質譜檢漏的氦罩法

         不難理解氦罩可以看成是一個口徑很大的噴咀, 包圍了被檢件或被檢件的一部分, 檢漏儀指示的漏率是氦罩包圍的被檢件(或被檢件的部分) 的所有漏孔的漏率總和。氦罩法靈敏度校準可用一支帶有閥門的校準漏孔, 在被檢件不加氦罩情況下進行。